制程工艺
直接镀铜技术
-Direct Plating copper(DPC)
DPC亦称为直接镀铜基板,首先将陶瓷基板做前处理清洁,利用薄膜专业制造技术-真空镀膜方式于陶瓷基板上溅镀结合于铜金属复合层,接着以黄光微影之光阻被覆曝光、显影、蚀刻、去膜工艺完成线路制作,最后再以电镀/化学镀沉积方式增加线路的厚度,待光阻移除后即完成金属化线路制作。
直接镀铜 (Direct plating copper)工艺在陶瓷薄膜工艺加工基础上发展起来的陶瓷电路加工工艺。区别于传统的厚膜和薄膜加工工艺,它的加工更加强化电化学加工要求。通过物理方法实现陶瓷表面金属化以后,采用电化学加工导电铜和功能膜层。
它的优势集中在以下五个方面:
优势序号 | 特性 | 区别厚膜工艺 | 区别薄膜工艺 |
优势一 | 加工速度相对较快 | 不需要印刷网版和陶瓷烧结测试 | 不需要掩膜铬板加工 |
优势二 | 陶瓷类型和厚度没有限制,涵盖任何无机材料 | 高纯度的单晶生长的无机材料无法加工 | 厚度超过1mm的陶瓷板处理困难 |
优势三 | 金属类型和厚度没有限制 | 有些金属无法做成浆料 | 金属膜层厚度不宜超过10微米 |
优势四 | 金属的结晶完美 | 烧结的金属多孔疏松 | 溅射的金属结晶较薄 |
优势五 | 适合微米级精细加工 | 很难加工精度10微米以下电路 | 很难加工精度2微米以上的电路 |