制程工艺

直接镀铜技术

-Direct Plating copper(DPC)


DPC亦称为直接镀铜基板,首先将陶瓷基板做前处理清洁,利用薄膜专业制造技术-真空镀膜方式于陶瓷基板上溅镀结合于铜金属复合层,接着以黄光微影之光阻被覆曝光、显影、蚀刻、去膜工艺完成线路制作,最后再以电镀/化学镀沉积方式增加线路的厚度,待光阻移除后即完成金属化线路制作。


直接镀铜 (Direct plating copper)工艺在陶瓷薄膜工艺加工基础上发展起来的陶瓷电路加工工艺。区别于传统的厚膜和薄膜加工工艺,它的加工更加强化电化学加工要求。通过物理方法实现陶瓷表面金属化以后,采用电化学加工导电铜和功能膜层。


它的优势集中在以下五个方面:


优势序号

特性

区别厚膜工艺

区别薄膜工艺

优势一

加工速度相对较快

不需要印刷网版和陶瓷烧结测试

不需要掩膜铬板加工

优势二

陶瓷类型和厚度没有限制,涵盖任何无机材料

高纯度的单晶生长的无机材料无法加工

厚度超过1mm的陶瓷板处理困难

优势三

金属类型和厚度没有限制

有些金属无法做成浆料

金属膜层厚度不宜超过10微米

优势四

金属的结晶完美

烧结的金属多孔疏松

溅射的金属结晶较薄

优势五

适合微米级精细加工

很难加工精度10微米以下电路

很难加工精度2微米以上的电路